掩膜版也叫光刻版，是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。光刻掩膜版的作用主要体现为利用已经设计好的图案，通过透光与非透光方式进行图像（电路图形）复制，从而实现批量生产。掩膜版制造过程较为复杂，主要是基于原始设计图形，加入光学临近效应补偿，通过计算机辅助系统处理，使用激光或电子束曝光的手法将经过修正后的设计图形移植到透光性能良好的石英基板上，最后还要经过后续蚀刻和检验修补工艺。总的来看，光刻掩膜版生产需要经过图形设计、图形转换等诸多步骤。具体流程如下：

1．客户确定图形后，通过对专业设计软件进行二次编辑和处理。
2．依据版图设计数据分层。运算，根据工艺需求对相应的参数进行确定和格式转化。
3．掩膜版的制造采用的是正性光刻胶，通过光刻机中的激光作用需要曝光区域的光刻内部发生交联反应。
4．通过曝光后在显影液的作用下未曝光区域进行保留并保护膜层。
5．保护膜层的部分会保留图形的样式，再通过蚀刻液进行腐蚀溶解成型。
6．溶解成型后再通过脱模工序进行脱模液除去多余的光刻胶。
7．利用清水洗净掩膜版两面污染物。
8．完成以上步骤后，再进行尺寸测量得到准确的参数值。
9．接下来就是检测掩膜版的产品是否满足客户定制需求，对图形、排名、伤痕、图形边缘等全面检测和确认良品。
10．对良品进行包装，封箱贴好各种参数值，批次，数量等，最终进行发货。

以上就是一些关于光刻掩膜版生产流程及作用介绍。