2023.05.30
光刻胶的去除方法及工艺
光刻胶是一大类具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料，是转移紫外曝光或电子束曝照图案的媒介。在光刻工艺过程中，光刻胶被用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面上得到所需的图像。在完成刻蚀或离子注入后，也要将半导体衬底上的光刻胶去除。那么，光刻胶的去除方法有哪些？常用的去除光刻胶的方法有干法等离子体刻蚀和湿法清洗。在干法等离子体刻蚀工艺中，产
