2026.08.13
电子束直写光刻：微纳精密制造的核心图形化手段
在微纳加工体系中，图形化是决定器件性能、集成度与功能边界的核心工序。传统掩模光刻依赖固定光罩完成批量曝光，虽适配大规模晶圆制造，但掩模制备周期长、成本高昂，面对研发迭代、小批量定制与纳米级精细结构加工时存在明显局限。电子束直写光刻凭借无掩模直写、高分辨率、设计灵活可调的特性，成为支撑前沿微纳器件研发与特种精密加工的关键技术，打通了从数字版图到纳米实物结构的直接转化路径。电子束直写光刻的核心原理依托
