2026.06.18
不同介质的主流刻蚀技术探析
刻蚀是精密制造、半导体、光学材料加工等领域的核心工艺，核心作用是通过物理或化学方式精准去除材料表面指定区域，塑造预设微观或宏观结构。不同材质的硬度、化学性质、物理特性差异大，单一刻蚀技术无法适配所有加工需求。经过行业技术迭代，干法刻蚀、湿法刻蚀、离子束刻蚀、激光刻蚀四种主流技术，凭借各自独特的工艺原理，精准适配不同介质材料，成为精密加工领域的核心工艺方案。干法刻蚀是适配高硬度介质的物理加工工艺，核
