2026.06.24
光刻掩膜版：芯片制造的精密底片
集成电路制造包含沉积、光刻、刻蚀等上千道工序，光刻是决定芯片图形尺寸下限的核心环节，而光刻掩膜版，便是光刻工艺里不可或缺的图形母版，如同传统相机底片，承载全部电路设计信息，是连接芯片设计与晶圆制造的关键载体。一、掩膜版基础工作原理一套完整光刻系统由光源、照明系统、掩膜版、投影物镜与涂胶硅片构成。光源经过光路穿过掩膜版透明区域，遮光区域阻挡光线，透过的光束经透镜成像在光刻胶表面，使光刻胶发生光化学反
