2026.06.11
湿法腐蚀复兴：MEMS体硅加工的经典技术回归
在MEMS微纳加工技术高速迭代的当下，以DRIE干法刻蚀为代表的高精度等离子工艺长期占据主流，凭借垂直高深宽比结构加工优势成为复杂器件制备的理想之选。但近年来，兼顾低成本、低损伤、高一致性的湿法各向异性腐蚀技术，在MEMS代工领域强势复兴，重新成为体硅加工的核心工艺之一，在传感器、微流控、惯性器件等量产场景中展现出不可替代的价值。湿法各向异性腐蚀是传统体硅加工的核心技术，原理依托氢氧化钾、四甲基氢
