2026.10.22
磁控溅射与电子束蒸发：两种主流镀膜工艺的选型之道
薄膜沉积是半导体、光学与显示器件制造中的基础环节，而物理气相沉积（PVD）的两大主力——磁控溅射镀膜与电子束蒸发镀膜，几乎覆盖了大部分功能性薄膜的应用场景。两者原理不同、特性各异，选型时需结合膜层要求、材料体系与产能成本综合权衡。一、原理差异：粒子动能决定成膜方式磁控溅射依靠电场与磁场的协同作用，将工艺气体电离形成等离子体，正离子在电场加速下轰击靶材，将靶材原子或分子“溅射”出来，沉积到基片表面成
