2026.05.07
低温镀膜需求？PECVD让温度不再是瓶颈
在薄膜沉积领域，低温镀膜的需求正随着行业发展不断升级。许多基材对温度非常敏感，过高的镀膜温度会导致基材变形、性能受损甚至报废，这一问题长期制约着镀膜技术在多个领域的应用，成为行业发展的重要瓶颈。而等离子体增强化学气相沉积（PECVD）技术的出现，打破了温度的限制，让低温镀膜从难题变为现实，为各行业的创新发展提供了新可能。传统镀膜技术多依赖高温驱动化学反应，以此实现薄膜的沉积。
