About us
公司简介
View more
无锡中慧芯科技有限公司,位于无锡市滨湖区十八湾路288号湖景科技园,是一家专注于微纳加工、MEMS器件设计加工的公司,致力于为客户提供更快更优的MEMS解决方案。
公司团队成员深耕MEMS行业多年,拥有十多年丰富的微纳加工、MEMS器件开发及制造能力,技术成熟,工艺经验丰富...
Product & Service
产品与服务
专业为高校、科研机构及企业提供一站式微纳加工代工、MEMS器件加工、流片服务。
Advantages
核心优势

纳米尺度·卓越精准

满足MEMS、光子芯片等严苛精度需求

多元材料·一站式解决

覆盖硅基、金属、陶瓷等30+材料微纳加工

深度协同·按需定制

支持从图纸→样品→量产的全程敏捷响应

创新驱动·技术护城河

持有30+项微纳加工相关资质

News
行业资讯
微纳加工中的刻蚀工艺:从湿法到干法的技术与应用
2025.04.29
微纳加工中的刻蚀工艺:从湿法到干法的技术与应用
微纳加工中的刻蚀工艺是制造微米和纳米尺度结构的关键技术之一,主要用于选择性去除材料以形成所需的图案或结构。刻蚀工艺可分为湿法刻蚀和干法刻蚀两大类,各有特点和应用场景。以下是详细解析:1. 湿法刻蚀(Wet Etching)原理:利用化学溶液与待刻蚀材料发生反应,生成可溶性产物,从而去除材料。特点:各向同性刻蚀:通常横向和纵向刻蚀速率相近,导致钻蚀现象
镀膜技术在半导体制造中的关键作用与前沿应用
2025.04.25
镀膜技术在半导体制造中的关键作用与前沿应用
在现代半导体工业中,镀膜技术已成为不可或缺的核心工艺环节。随着半导体器件尺寸的不断缩小和性能要求的持续提高,精密镀膜工艺对半导体材料的性能优化起到了决定性作用。特别是在MEMS微纳加工领域,镀膜技术不仅关系到器件的功能性实现,更直接影响着产品的可靠性和良品率。本文将系统探讨镀膜技术在半导体制造中的多重作用,分析其对不同半导体材料的影响,并阐述其在MEMS微纳加工中的特殊应用价值。一、镀膜技术概述及
离子注入的作用及其在半导体制造中的应用
2025.04.17
离子注入的作用及其在半导体制造中的应用
离子注入(Ion Implantation)是半导体制造中的关键工艺之一,通过高能离子束轰击半导体材料,精确控制掺杂浓度和分布,从而调节材料的电学特性。以下是离子注入的主要作用及其应用:1. 离子注入的核心作用(1) 可控掺杂将特定杂质(如硼B、磷P、砷As)注入硅衬底,形成P型或N型半导体,构建晶体管源/漏区、阱区等。优势:相比扩散工艺,离子注入能精确控制掺杂浓度和深度(剂量可调至10¹¹~10
Customer
合作客户
Copyright © 无锡中慧芯科技有限公司 版权所有 苏ICP备2023016322号-1
友情链接